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本技术公开了一种光学胶均匀上料设备，属于光学胶加工技术领域，针对了光学胶在上料涂胶过程中不够均匀且多余出来的胶水会产生浪费的问题，包括加工台，加工台的顶端固定有支撑架，支撑架的顶端固定有储料桶，支撑架的顶端内壁固定有喷胶机，喷胶机与储料桶连...
该专利属于深圳市鸿裕达半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市鸿裕达半导体有限公司授权不得商用。

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