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一种沟槽栅MOS管及其制备方法技术
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文档序号:40928505
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本申请提供一种沟槽栅MOS管及其制备方法,在MOS管中,栅极设置在漂移层上;多个第一掺杂区间隔绕设在栅极的四周,相邻两个第一掺杂区之间形成第一间隔;多个第二掺杂区中的每一第二掺杂区对应设置在一个第一间隔内;源极设置在第二掺杂区上,并与第二掺...
该专利属于深圳天狼芯半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳天狼芯半导体有限公司授权不得商用。
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