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本发明提供一种基板处理设备。在一实施例中，基板处理设备可以包括：壳体，其上部开放，在其内部具有处理空间；气体供应单元，其向处理空间供应气体；支撑单元，其具有在处理空间支撑基板的卡盘和从上部观察时以包围卡盘的方式提供的下部电极；介电板单元，其...
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