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提供了一种沉积设备，其包括：掩模，在掩模中限定有多个沉积开口；掩模框架，包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上，并且在掩模框架中限定有开口；平台，设置在掩模框架的后表面上；以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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