沉积设备制造技术

提供了一种沉积设备，其包括：掩模，在掩模中限定有多个沉积开口；掩模框架，包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上，并且在掩模框架中限定有开口；平台，设置在掩模框架的后表面上；以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部，设置在平台上，其中，第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸，并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸，并且第一外力施加部至第三外力施加部中的每个包括支撑掩模框架的外表面的支撑件和使支撑件在与掩模框架的外表面垂直的方向上移动的驱动部。根据公开的沉积设备包括能够调节掩模框架的位置的外力施加部，使得沉积设备具有改善的沉积精度。

【技术实现步骤摘要】

公开在此涉及一种沉积设备，更具体地，涉及一种用于制造显示面板的沉积设备。

技术介绍

1、显示装置(诸如电视、移动电话、平板计算机、导航仪、游戏控制平台等)包括显示面板。显示面板可以包括多个像素。多个像素中的每个可以包括驱动元件(诸如晶体管)和显示元件(诸如有机发光二极管)。显示元件可以通过在基底上沉积电极和发射图案而形成。

2、可以使用其中沉积开口被限定为形成在预定区域中的掩模而使发射图案图案化。最近，为了改善显示面板的产品良率，正在开发使用大面积掩模的沉积工艺技术。

技术实现思路

1、然而，当掩模在沉积设备中没有在期望的位置处对准时，存在发射图案形成位置的精度劣化的限制。

2、本技术的目的是为了提供一种能够执行大面积沉积并且具有改善的沉积精度的沉积设备。

3、技术构思的实施例提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括：掩模，在掩模中限定有多个沉积开口；掩模框架，包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上，并且在掩模框架中限定有开口；平台，设置在掩模框架的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种沉积设备，其特征在于，所述沉积设备包括：

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述第一外力施加部包括支撑所述第一部分的外表面的第一支撑件和使所述第一支撑件在所述第二方向上移动的第一驱动部，

3.根据权利要求1或2所述的沉积设备，其特征在于，所述第一外力施加部包括在所述第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部，

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述多个第一子外力施加部中的每个在所述第二方向上是独立地可移动的，

5.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述多个第二子外力施加部在所述第三部分的与所述第一部分...

【技术特征摘要】

1.一种沉积设备，其特征在于，所述沉积设备包括：

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述第一外力施加部包括支撑所述第一部分的外表面的第一支撑件和使所述第一支撑件在所述第二方向上移动的第一驱动部，

3.根据权利要求1或2所述的沉积设备，其特征在于，所述第一外力施加部包括在所述第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部，

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述多个第一子外力施加部中的每个在所述第二方向上是独立地可移动的，

5.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述多个第二子外力施加部在所述第三部分的与所述第一部分相邻的一侧和所述第三部分的与所述第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开，并且

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【专利技术属性】
技术研发人员：高晙赫，姜敏求，金义圭，金宗范，柳锡河，李尙玟，郑京勳，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：