温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术提供半导体热制程用加热装置，该半导体热制程用加热装置，包括热制程箱体，热制程箱体的两侧均设置有隔热门板，热制程箱体的内部设置有放置盘，放置盘的顶部设置有加热机构，加热机构的内部设置有吹灰机构，吹灰机构用于保持放置盘内部的洁净度，加热机...
该专利属于成都特维思科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都特维思科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。