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本发明公开了一种降冰片基类ArF光刻胶树脂单体及其制备方法与应用，所述ArF光刻胶树脂单体的制备方法包括以下步骤：(1)将纳迪克酸酐与1‑乙基环戊醇在缩合剂及溶剂的存在下反应，得到中间体1；(2)将中间体1与甲酸、双氧水在溶剂的存在下反应，...
该专利属于卓芯杰（苏州）半导体材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卓芯杰（苏州）半导体材料科技有限公司授权不得商用。

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