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本申请提供了一种半导体外延生长设备，包括：反应腔体和感应线圈，其中，所述感应线圈设置在所述反应腔体的外周，所述感应线圈沿工艺气体的流动方向具有第一端和第二端，所述第一端靠近工艺气体入口，所述第二端靠近工艺气体出口，所述反应腔体内设置有基片托...
该专利属于研微（江苏）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过研微（江苏）半导体科技有限公司授权不得商用。

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