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一种自清洁涂层、自清洁结构、制作方法、玻璃幕墙及监控设备技术
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下载一种自清洁涂层、自清洁结构、制作方法、玻璃幕墙及监控设备的技术资料
文档序号:40878889
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本申请公开一种自清洁涂层、自清洁结构、制作方法、玻璃幕墙及监控设备,该自清洁涂层包括:导电层;胶柱阵列层,设于导电层的至少一侧表面,胶柱阵列层包括多个纳米胶柱,每个纳米胶柱的一端与导电层连接;其中,每个纳米胶柱的侧面设有至少一个电致变形结构...
该专利属于浙江大华技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江大华技术股份有限公司授权不得商用。
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