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本申请实施例提供一种图案化石墨烯及其制备方法，所述方法包括：S10、提供镍基石墨烯；S20、在石墨烯薄膜的表面涂覆光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影；S30、采用等离子体刻蚀工艺，在石墨烯薄膜上形成所需图案，得到位于镍生长基底上的图案化石墨烯...
该专利属于山西大学所有，仅供学习研究参考，未经过山西大学授权不得商用。

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