一种图案化石墨烯及其制备方法技术

本申请实施例提供一种图案化石墨烯及其制备方法，所述方法包括：S10、提供镍基石墨烯；S20、在石墨烯薄膜的表面涂覆光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影；S30、采用等离子体刻蚀工艺，在石墨烯薄膜上形成所需图案，得到位于镍生长基底上的图案化石墨烯；S40、将柔性基底设置于石墨烯薄膜上；S50、去除镍生长基底，得到位于柔性基底上的图案化石墨烯；本申请直接在生长基底上对石墨烯薄膜进行图案化处理，最后再热压柔性基底、溶液刻蚀生长基底，实现石墨烯的大面积转移，工艺简单，操作稳定性极高，能较好地保持石墨烯薄膜图案化结构，适用于柔性器件材料的制备领域。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体材料和柔性材料的制备，尤其涉及一种图案化的石墨烯及其制备方法。

技术介绍

1、石墨烯是一种由单层碳原子组成六角蜂巢结构的二维晶体，具有优异的电学性能、光学性能、力学性能和热学特性，有望为储能电池、光电显示、传感器等领域的柔性化转型提供材料基础。

2、而图案化设计是柔性光电子器件制备中的重要环节，目前紫外光刻结合等离子刻蚀是实现高分辨大面积图案化的有效手段，由于该方法涉及曝光、显影、除胶等步骤，所以要求衬底呈非曲面、不溶于除胶剂，且衬底与材料间需要具有较强的粘附力。而石墨烯与目标基底(硅基底或柔性基底)之间的粘附力都较弱，再加上柔性基底可能溶于除胶剂等缺陷，就使得石墨烯的图案化设计成为一个难题。

3、而现有的大多数石墨烯图案化制备方案，大都是先将石墨烯薄膜转移至目标基底上之后才进行一系列的图案化制备，不仅工艺复杂、操作稳定性较低，而且最终得到的石墨烯图案化结构的质量也不甚理想。

技术实现思路

1、为了解决上述技术缺陷之一，本申请实施例中提供了一种图案化石墨烯及其制备方法<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤S30，具体包括：

4.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤S40，具体包括：

5.根据权利要求4所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤S50，具体包括：

6.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤S20，具体包括：

7.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的支撑层...

【技术特征摘要】

1.一种图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤s30，具体包括：

4.根据权利要求2所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤s40，具体包括：

5.根据权利要求4所述的图案化石墨烯的制备方法，其特征在于：步骤s50，具体包括：

6.根据权利要求2所述的图案化石墨烯...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾干英，毕小雪，肖连团，秦成兵，杨志春，陈瑞云，张国峰，贾锁堂，方振宇，
申请(专利权)人：山西大学，
类型：发明
国别省市：