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本发明涉及光电子技术领域,且公开了一种具有高亮度红黄光mini外延片,包括GaAs衬底、GaAs‑buffer层、腐蚀截至层、N侧欧姆接触层、电流扩展层、AlInP限制层、MQW发光层、AlInP限制层和GaP层,所述AlInP限制层的顶部...该专利属于山东华光光电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东华光光电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及光电子技术领域,且公开了一种具有高亮度红黄光mini外延片,包括GaAs衬底、GaAs‑buffer层、腐蚀截至层、N侧欧姆接触层、电流扩展层、AlInP限制层、MQW发光层、AlInP限制层和GaP层,所述AlInP限制层的顶部...