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本发明提供了一种研磨垫的调整盘，包括盘体、空置区域以及多个研磨区域，所述盘体设置有研磨面；所述空置区域设置在所述研磨面的中心区域；多个研磨区域分别设置在所述研磨面上，且以所述空置区域为中心，多个研磨区域设置在所述空置区域的周边；所述研磨区域...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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