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本申请提供了一种CMP工艺预测、预测模型训练方法及装置、计算设备，CMP工艺预测方法包括：获取芯片版图数据中多个待预测点的CMP工艺的版图特征；将版图特征输入至预测模型，以得到每一待预测点的预测结果，预测结果包括CMP工艺的高度值，预测模型...
该专利属于全芯智造技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过全芯智造技术有限公司授权不得商用。

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