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一种半导体器件制造技术
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下载一种半导体器件的技术资料
文档序号:4082004
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一种半导体器件,包括:衬底;阱,所述阱毗邻衬底并包括N型埋层和N型掺杂区域;具有掺杂梯度的N型掺杂区域,所述具有掺杂梯度的N型掺杂区域毗邻所述衬底和所述阱的N型掺杂区域;P型掺杂区域,所述P型掺杂区域毗邻所述衬底和所述具有掺杂梯度的N掺杂区...
该专利属于成都芯源系统有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都芯源系统有限公司授权不得商用。
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