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本发明公开了一种高分辨率的光学镀膜图形化加工工艺。本发明曝光前增加碱性预处理工艺,使光刻胶顶部与显影液反应,曝光时使得光刻胶底部比光刻胶顶部吸收更多的曝光能量,底部变得更容易显影,而光刻胶表面会形成一层硬膜,形成自上向下显影速率逐渐增加的梯...该专利属于美迪凯(浙江)智能光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过美迪凯(浙江)智能光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种高分辨率的光学镀膜图形化加工工艺。本发明曝光前增加碱性预处理工艺,使光刻胶顶部与显影液反应,曝光时使得光刻胶底部比光刻胶顶部吸收更多的曝光能量,底部变得更容易显影,而光刻胶表面会形成一层硬膜,形成自上向下显影速率逐渐增加的梯...