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本发明公开了一种基板处理装置及包括其的基板处理系统及基板处理方法，根据本发明的实施例的基板处理装置包括：多个显影腔室，排列成一列；以及喷嘴单元，包括设置在所述多个显影腔室中的至少任一个而向基板供应显影液的多个显影液供应喷嘴，所述喷嘴单元包括...
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