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本技术公开了一种用于清洁设备的清洁基站及具有其的清洁系统，清洁基站包括：基站底座，形成有清洗槽和过滤槽，过滤槽与清洗槽连通，过滤槽的底壁形成有过滤结构；清洗件，可运动地设于清洗槽内，在清洗件运动的过程中，清洗槽内的污物适于在清洗件的搅动下流...
该专利属于美智纵横科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过美智纵横科技有限责任公司授权不得商用。

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