【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洁电器，尤其是涉及一种用于清洁设备的清洁基站及具有其的清洁系统。
技术介绍
1、随着人们生活水平的提高，自动清扫设备如清洁机器人等逐渐进入千家万户，为人们节省了大量的家务打扫的精力，并且，随着自动清洁设备的快速发展，同时具有扫地以及拖地功能的清洁机器人被越来越多用户选择，在具有扫拖功能的清洁机器人的工作过程中，通常搭配清洁基站进行拖布的清洁，以提升清洁机器人的清洁能力，并且清洁基站需要同时具备自清洁功能，但是相关技术中的清洁后产生的污物均通过排污管排出，可能导致污水排水管内堵塞，影响清洁基站的排污能力。
技术实现思路
1、本技术提出了一种用于清洁设备的清洁基站，所述清洁基站通过过滤结构可以较好地分离污水以及固体污物，可以较好地避免排污管道堵塞。
2、本技术还提出了一种具有上述清洁基站的清洁系统。
3、根据本技术实施例的用于清洁设备的清洁基站，包括：基站底座，形成有清洗槽和过滤槽，所述过滤槽与所述清洗槽连通，所述过滤槽的底壁形成有过滤结构；清洗件，可运动地设于所述清洗槽内，在所述清洗件运动的过程中，所述清洗槽内的污物适于在所述清洗件的搅动下流入所述过滤槽内。
4、根据本技术实施例的用于清洁设备的清洁基站，过滤结构可以较好地分离污水以及固体污物，便于针对不同类型的污物进行分类处理，从而可以较好地提升清洁基站对清洗槽内污物的处理效果，并可以较好地避免排污管道堵塞，清洗槽内的污物适于在清洗件的搅动下流入过滤槽内，可以较好地加快污水进入过滤槽的
5、根据本技术的一些实施例，所述过滤槽的底壁低于所述清洗槽的底壁。
6、根据本技术的一些实施例，所述过滤槽位于所述清洗槽的外周侧。
7、根据本技术的一些实施例，所述清洗槽的周壁形成有连通缺口，所述连通缺口连通所述过滤槽与所述清洗槽。
8、根据本技术的一些实施例，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件的转动轴线沿上下方向延伸，在所述清洗件旋转的过程中，所述清洗件适于经过所述过滤槽的上方。
9、根据本技术的一些实施例，所述清洗槽的底壁的至少部分形成为导流面，所述导流面在由所述清洗槽至所述过滤槽的方向上倾斜向下延伸。
10、根据本技术的一些实施例，所述清洁基站还包括用于对清洗槽供水的供水组件；所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水组件与所述供水孔之间通过供水通道连通。
11、根据本技术的一些实施例，所述清洗件包括清洗件本体以及设于所述清洗件本体底面的第一清洗结构，所述清洗件本体可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件本体转动时带动所述第一清洗结构搅动所述清洗槽内的污物流入所述过滤槽内。
12、根据本技术的一些实施例，所述第一清洗结构适于与所述清洗槽的底壁接触；和/或，所述第一清洗结构包括柔性胶条和毛刷中的至少一种。
13、根据本技术的一些实施例，所述清洗件具有第一清洗状态和第二清洗状态；其中，在所述第一清洗状态，所述清洗件相对所述基站底座固定，所述清洗件用于对所述清洁设备的拖擦件进行清洗；在所述第二清洗状态，所述清洗件可运动以清洗所述清洗槽。
14、根据本技术的一些实施例，所述清洁基站还包括用于对清洗槽供水的供水组件，所述清洗件的上表面形成有出水槽，所述供水组件的水适于流入所述出水槽内，所述出水槽内的水适于溢流至所述清洗槽内。
15、根据本技术的一些实施例，所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水箱与所述供水孔之间通过供水通道连通，在所述第一清洗状态，所述出水槽邻近所述供水孔，所述供水孔适于向所述出水槽内供水。
16、根据本技术的一些实施例，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件的转动轴线沿上下方向延伸，所述清洗件径向外端面形成有供水缺口，所述供水缺口贯穿所述出水槽的侧壁；其中，在所述第一清洗状态，所述供水缺口与所述供水孔相对。
17、根据本技术的一些实施例，所述出水槽包括第一槽区和第二槽区，所述第一槽区位于所述第二槽区的径向外侧，所述供水缺口形成于所述第一槽区的侧壁；其中，在所述第一清洗状态，所述拖擦件覆盖于所述第二槽区，所述第一槽区暴露于所述拖擦件的外周侧。
18、根据本技术的一些实施例，在所述清洗件的旋转方向上，所述第一槽区的宽度大于所述第二槽区的宽度。
19、根据本技术的一些实施例，所述第二槽区的底壁低于所述第一槽区的底壁。
20、根据本技术的一些实施例，所述清洁基站还包括限位件，所述限位件设于所述底座，用于对所述清洗件限位；其中，在所述第一清洗状态，所述限位件与所述清洗件配合，以使所述清洗件相对所述基站底座固定，所述清洗件用于对所述清洁设备的拖擦件进行清洗；在所述第二清洗状态，所述限位件与所述清洗件脱离配合，所述清洗件可运动以清洗所述清洗槽。
21、根据本技术的一些实施例，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽，所述清洗件包括清洗件本体和转轴，所述清洗槽的底壁形成有转孔，所述转轴可转动地配合于所述转孔，所述清洗件本体位于所述清洗槽内；其中，在所述第一清洗状态，在所述清洗件的转动方向上，所述限位件与所述清洗件本体抵接，以使所述清洗件相对所述基站底座固定。
22、根据本技术的一些实施例，所述清洁基站还包括排水组件，所述排水组件用于将所述清洗槽内产生的污水排出；所述基站底座还形成有污水缓存腔，所述污水缓存腔位于所述过滤槽的下方且与所述过滤槽通过所述过滤结构连通，所述排水组件用于将所述污水缓存腔内的污水排出。
23、根据本技术的一些实施例，所述排水组件包括排污管，所述排污管连接于所述过滤槽的底壁且与所述污水缓存腔连通，所述排污管用于将所述污水缓存腔内的污水排出。
24、根据本技术的一些实施例，所述排水组件还包括污水箱，所述污水箱与所述污水缓存腔之间通过所述排污管连通。
25、根据本技术的一些实施例，所述清洗槽为沿左右方向排布的两个，所述过滤槽位于两个所述清洗槽之间，两个所述清洗槽内的污物均适于流入所述过滤槽内。
26、根据本技术实施例的清洁系统，包括：上述清洁基站；清洁设备，所述清洁设备适于与所述清洁基站配合，所述清洁基站至少用于对所述清洁设备的拖擦件进行清洗。
27、根据本技术实施例的清洁系统，过滤结构可以较好地分离污水以及固体污物，便于针对不同类型的污物进行分类处理，从而可以较好地提升清洁基站对清洗槽内污物的处理效果，并可以较好地避免排污管道堵塞，清洗槽内的污物适于在清洗件的搅动下流入过滤槽内，可以较好地加快污水进入过滤槽的速度，同时可以较好地避免固体污物在清洗槽的内壁上堆积，利于提升清洗槽内的洁净度。
28、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于清洁设备的清洁基站，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述过滤槽的底壁低于所述清洗槽的底壁。
3.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述过滤槽位于所述清洗槽的外周侧。
4.根据权利要求3所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的周壁形成有连通缺口，所述连通缺口连通所述过滤槽与所述清洗槽。
5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件的转动轴线沿上下方向延伸，在所述清洗件旋转的过程中，所述清洗件适于经过所述过滤槽的上方。
6.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的底壁的至少部分形成为导流面，所述导流面在由所述清洗槽至所述过滤槽的方向上倾斜向下延伸。
7.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，还包括用于对清洗槽供水的供水组件；所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水组件与所述供水孔之间通过供水通道连通。
8.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件包括清洗件本体以及设于所述
9.根据权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述第一清洗结构适于与所述清洗槽的底壁接触；和/或，所述第一清洗结构包括柔性胶条和毛刷中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件具有第一清洗状态和第二清洗状态；
11.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，还包括用于对清洗槽供水的供水组件；所述清洗件的上表面形成有出水槽，所述供水组件的水适于流入所述出水槽内，所述出水槽内的水适于溢流至所述清洗槽内。
12.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水组件包括供水箱，所述供水箱与所述供水孔之间通过供水通道连通，在所述第一清洗状态，所述出水槽邻近所述供水孔，所述供水孔适于向所述出水槽内供水。
13.根据权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件的转动轴线沿上下方向延伸，所述清洗件径向外端面形成有供水缺口，所述供水缺口贯穿所述出水槽的侧壁；
14.根据权利要求13所述的清洁基站，其特征在于，所述出水槽包括第一槽区和第二槽区，所述第一槽区位于所述第二槽区的径向外侧，所述供水缺口形成于所述第一槽区的侧壁；
15.根据权利要求14所述的清洁基站，其特征在于，在所述清洗件的转动方向上，所述第一槽区的宽度大于所述第二槽区的宽度。
16.根据权利要求14所述的清洁基站，其特征在于，所述第二槽区的底壁低于所述第一槽区的底壁。
17.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，还包括限位件，所述限位件设于所述底座，用于对所述清洗件限位；
18.根据权利要求17所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽，所述清洗件包括清洗件本体和转轴，所述清洗槽的底壁形成有转孔，所述转轴可转动地配合于所述转孔，所述清洗件本体位于所述清洗槽内；
19.根据权利要求1-18中任一项所述的清洁基站，其特征在于，还包括排水组件，所述排水组件用于将所述清洗槽内产生的污水排出；所述基站底座还形成有污水缓存腔，所述污水缓存腔位于所述过滤槽的下方且与所述过滤槽通过所述过滤结构连通，所述排水组件用于将所述污水缓存腔内的污水排出。
20.根据权利要求19所述的清洁基站，其特征在于，所述排水组件包括排污管，所述排污管连接于所述过滤槽的底壁且与所述污水缓存腔连通，所述排污管用于将所述污水缓存腔内的污水排出。
21.根据权利要求20所述的清洁基站，其特征在于，所述排水组件还包括污水箱，所述污水箱与所述污水缓存腔之间通过所述排污管连通。
22.根据权利要求1-18中任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽为沿左右方向排布的两个，所述过滤槽位于两个所述清洗槽之间，两个所述清洗槽内的污物均适于流入所述过滤槽内。
23.一种清洁系统，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于清洁设备的清洁基站，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述过滤槽的底壁低于所述清洗槽的底壁。
3.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述过滤槽位于所述清洗槽的外周侧。
4.根据权利要求3所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的周壁形成有连通缺口，所述连通缺口连通所述过滤槽与所述清洗槽。
5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件的转动轴线沿上下方向延伸，在所述清洗件旋转的过程中，所述清洗件适于经过所述过滤槽的上方。
6.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的底壁的至少部分形成为导流面，所述导流面在由所述清洗槽至所述过滤槽的方向上倾斜向下延伸。
7.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，还包括用于对清洗槽供水的供水组件；所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水组件与所述供水孔之间通过供水通道连通。
8.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件包括清洗件本体以及设于所述清洗件本体底面的第一清洗结构，所述清洗件本体可转动地设于所述清洗槽内，所述清洗件本体转动时带动所述第一清洗结构搅动所述清洗槽内的污物流入所述过滤槽内。
9.根据权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述第一清洗结构适于与所述清洗槽的底壁接触；和/或，所述第一清洗结构包括柔性胶条和毛刷中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗件具有第一清洗状态和第二清洗状态；
11.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，还包括用于对清洗槽供水的供水组件；所述清洗件的上表面形成有出水槽，所述供水组件的水适于流入所述出水槽内，所述出水槽内的水适于溢流至所述清洗槽内。
12.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗槽的内周壁形成有供水孔，所述供水组件包括供水箱，所述供水箱与所述供水孔之间通过供水通道连通，在所述第一清洗状态，所述出水槽邻近所述供水孔，所述供水孔适于向...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐建强，朱小刚，张鼎，孙涛，
申请(专利权)人：美智纵横科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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