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本发明提供一种采用ＦＩＢ低束流扫描刻蚀方法实现微纳材料尺寸缩减的方法及电极制作方法。该方法采用低束流ＦＩＢ刻蚀，使刻蚀具有原子尺度分辨率的图形加工精度，还可以用来对三维复杂纳米结构从不同入射角度、不同部位进行选择性尺寸缩减。...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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