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本申请公开了一种磁控溅射系统及其控制方法和装置，方法包括：根据测试靶材的纵向沉积膜厚度分布结果，对磁芯的磁场强度分布进行调整，以在目标靶材的表面得到预设数量的初始表面离子；在溅射过程中，通过辉光光谱检测装置实时监控目标靶材的当前表面离子与当...
该专利属于布勒莱宝光学设备（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过布勒莱宝光学设备（北京）有限公司授权不得商用。

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