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本发明公开了一种分子束外延衬底处理装置及分子束外延衬底处理方法，分子束外延衬底处理装置包括通过管道连接的进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室；进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室与管道之间分别设置有第一阀门；进样室、等离子处理腔...
该专利属于无锡中科德芯感知科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡中科德芯感知科技有限公司授权不得商用。

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