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本技术属于磁控溅射技术领域，公开了一种基板载具及磁控溅射设备。该基板载具包括活动板、固定板、第一调节组件及第二调节组件，活动板用于承载基板；固定板用于带动活动板移动；第一调节组件设置在固定板和活动板之间，第一调节组件能够改变活动板和固定板之...
该专利属于浙江景昇薄膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江景昇薄膜科技有限公司授权不得商用。

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