【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射，尤其涉及一种基板载具及磁控溅射设备。
技术介绍
1、磁控溅射是物理气相沉积的一种，是通过在靶阴极表面引入磁场、利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的镀膜技术，可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
2、目前广泛使用的磁控溅射设备一般采用固定的溅射源对基板进行溅射镀膜；溅射源设置在移动的载具上，由于溅射源和载具之间的距离恒定，因此平面基板(例如玻璃、硅片)上能够形成均匀的镀膜，而对于一些曲面以及平面度较低的基板，由于其表面不平整，当载具带动基板移动时，基板表面与溅射源之间的距离也会发生改变，从而使用现有的载具无法制备大面积膜厚均匀的膜层，从而影响了磁控溅射的镀膜效果。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种基板载具及磁控溅射设备，能够调节基板相对于溅射源的角度和距离，保证在基板表面不平整的情况下实现均匀地溅射镀膜。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、本技术提供一种基板载具，包括：
4、活动板，所述活动板用于承载基板；
5、固定板，所述固定板用于带动所述活动板移动；
6、第一调节组件，所述第一调节组件设置在所述固定板和所述活动板之间，所述第一调节组件能够改变所述活动板和所述固定板之间的距离；
7、第二调节组件，所述活动板通过所述第二调节组件与所述第一调节组件连接，所述第二调节组件能够改变所述活
8、作为优选地，所述第一调节组件为电动推杆，所述电动推杆包括外套管、内管以及第一驱动机构，所述内管穿设在所述外套管中，所述内管能够在所述第一驱动机构的驱动下沿所述外套管的长度方向移动，所述外套管的一端设置在所述固定板上，所述内管穿出所述外套管的另一端与所述活动板连接。
9、作为优选地，所述第二调节组件包括旋转轴、安装座以及第二驱动机构，所述活动板与所述旋转轴的侧面连接，所述旋转轴能够带动所述活动板转动；所述旋转轴转动设置在所述安装座上，所述安装座与所述内管远离所述固定板的端部连接，所述第二驱动机构用于驱动所述旋转轴转动。
10、作为优选地，所述第二调节组件还包括连接座，所述连接座固设在所述旋转轴上，所述连接座具有连接平面，所述连接平面与所述活动板贴靠且固定连接。
11、作为优选地，所述连接座设置有多个，多个所述连接座间隔设置在所述旋转轴上。
12、作为优选地，所述第一调节组件包括导轨、滚轮以及第一驱动机构，所述导轨的一端设置在所述固定板上，所述滚轮用于带动所述活动板沿所述导轨移动以远离或靠近所述固定板，所述第一驱动机构用于驱动所述滚轮转动。
13、作为优选地，所述第二调节组件包括旋转轴、安装座以及第二驱动机构，所述活动板与所述旋转轴的侧面连接，所述旋转轴能够带动所述活动板转动；所述旋转轴转动设置在所述安装座上，所述安装座设置在所述滚轮上，所述滚轮能够带动所述安装座沿所述导轨移动，所述第二驱动机构用于驱动所述旋转轴转动。
14、作为优选地，所述第一调节组件还包括自锁结构，所述自锁结构设置在所述滚轮上，所述自锁结构能够锁止所述滚轮以使所述滚轮保持静止。
15、作为优选地，基板载具还包括控制中心，所述控制中心与所述第一调节组件和所述第二调节组件连接。
16、磁控溅射设备，包括上述基板载具。
17、本技术的有益效果在于：
18、本技术提供的基板载具，由于活动板承载基板，且固定板能够带动活动板移动，因此溅射源能够对基板进行连续地溅射镀膜；由于固定板和活动板之间设置有第一调节组件，第一调节组件能够改变活动板和固定板之间的距离，因此活动板可以通过第一调节组件调节与固定板之间的距离来改变与溅射源的距离，同时由于活动板通过第二调节组件与第一调节组件连接，第二调节组件能够改变活动板和固定板之间的角度，因此第一调节组件和第二调节组件能够调节活动板与溅射源之间的距离和角度以使基板表面与溅射源之间的距离固定不变，从而保证在基板表面不平整的情况下实现均匀地溅射镀膜。
19、本技术提供的磁控溅射设备，采用上述基板载具，能够对承载基板的活动进行调节，以保证基板的表面与溅射源之间的相对距离保持固定，实现了在基板表面不平整的情况下均匀地溅射镀膜。
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1.基板载具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板载具，其特征在于，所述第一调节组件(3)为电动推杆，所述电动推杆包括外套管(31)、内管(32)以及第一驱动机构，所述内管(32)穿设在所述外套管(31)中，所述内管(32)能够在所述第一驱动机构的驱动下沿所述外套管(31)的长度方向移动，所述外套管(31)的一端设置在所述固定板(2)上，所述内管(32)穿出所述外套管(31)的另一端与所述活动板(1)连接。
3.根据权利要求2所述的基板载具，其特征在于，所述第二调节组件(4)包括旋转轴(41)、安装座(42)以及第二驱动机构，所述活动板(1)与所述旋转轴(41)的侧面连接，所述旋转轴(41)能够带动所述活动板(1)转动；所述旋转轴(41)转动设置在所述安装座(42)上，所述安装座(42)与所述内管(32)远离所述固定板(2)的端部连接，所述第二驱动机构用于驱动所述旋转轴(41)转动。
4.根据权利要求3所述的基板载具，其特征在于，所述第二调节组件(4)还包括连接座(43)，所述连接座(43)固设在所述旋转轴(41)上，所述连接座(4
5.根据权利要求4所述的基板载具，其特征在于，所述连接座(43)设置有多个，多个所述连接座(43)间隔设置在所述旋转轴(41)上。
6.根据权利要求1所述的基板载具，其特征在于，所述第一调节组件(3)包括导轨(33)、滚轮(34)以及第一驱动机构，所述导轨(33)的一端设置在所述固定板(2)上，所述滚轮(34)用于带动所述活动板(1)沿所述导轨(33)移动以远离或靠近所述固定板(2)，所述第一驱动机构用于驱动所述滚轮(34)转动。
7.根据权利要求6所述的基板载具，其特征在于，所述第二调节组件(4)包括旋转轴(41)、安装座(42)以及第二驱动机构，所述活动板(1)与所述旋转轴(41)的侧面连接，所述旋转轴(41)能够带动所述活动板(1)转动；所述旋转轴(41)转动设置在所述安装座(42)上，所述安装座(42)设置在所述滚轮(34)上，所述滚轮(34)能够带动所述安装座(42)沿所述导轨(33)移动，所述第二驱动机构用于驱动所述旋转轴(41)转动。
8.根据权利要求6所述的基板载具，其特征在于，所述第一调节组件(3)还包括自锁结构，所述自锁结构设置在所述滚轮(34)上，所述自锁结构能够锁止所述滚轮(34)以使所述滚轮(34)保持静止。
9.根据权利要求1所述的基板载具，其特征在于，所述基板载具还包括控制中心，所述控制中心与所述第一调节组件(3)和所述第二调节组件(4)连接。
10.磁控溅射设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的基板载具。
...【技术特征摘要】
1.基板载具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板载具，其特征在于，所述第一调节组件(3)为电动推杆，所述电动推杆包括外套管(31)、内管(32)以及第一驱动机构，所述内管(32)穿设在所述外套管(31)中，所述内管(32)能够在所述第一驱动机构的驱动下沿所述外套管(31)的长度方向移动，所述外套管(31)的一端设置在所述固定板(2)上，所述内管(32)穿出所述外套管(31)的另一端与所述活动板(1)连接。
3.根据权利要求2所述的基板载具，其特征在于，所述第二调节组件(4)包括旋转轴(41)、安装座(42)以及第二驱动机构，所述活动板(1)与所述旋转轴(41)的侧面连接，所述旋转轴(41)能够带动所述活动板(1)转动；所述旋转轴(41)转动设置在所述安装座(42)上，所述安装座(42)与所述内管(32)远离所述固定板(2)的端部连接，所述第二驱动机构用于驱动所述旋转轴(41)转动。
4.根据权利要求3所述的基板载具，其特征在于，所述第二调节组件(4)还包括连接座(43)，所述连接座(43)固设在所述旋转轴(41)上，所述连接座(43)具有连接平面，所述连接平面与所述活动板(1)贴靠且固定连接。
5.根据权利要求4所述的基板载具，其特征在于，所述连接座(43)设置有多个，多个所述连接座(43)间隔设置在所述旋转轴(41)上...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，姚舜，王予丛，沈栋栋，
申请(专利权)人：浙江景昇薄膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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