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本技术公开了一种用于制备高平整度超薄镀膜玻璃的镀膜装置，其特征在于，所述的镀膜装置包括：载具和设置于所述载具中的镀膜槽；所述的镀膜槽中还设置有若干气孔；镀膜时：所述的镀膜槽用于放置超薄玻璃，且所述镀膜槽的深度与所述超薄玻璃的厚度一致。本技术...
该专利属于凤阳硅谷智能有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过凤阳硅谷智能有限公司授权不得商用。

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