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一种基于PECVD技术于锆合金包壳管表面低温沉积碳化硅的方法技术
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下载一种基于PECVD技术于锆合金包壳管表面低温沉积碳化硅的方法的技术资料
文档序号:40760784
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本发明属于核燃料元器件及其制造领域,具体涉及一种基于PECVD技术于锆合金包壳管表面低温沉积碳化硅的方法,包括如下步骤:将表面预处理的锆合金包壳管置于PECVD沉积室中预热至沉积温度,利用等离子体放电对锆合金包壳管的表面进行清洗;再向沉积室...
该专利属于内蒙古科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过内蒙古科技大学授权不得商用。
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