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本技术涉及一种晶圆清洗结构，包括：清洗刷，清洗刷包括内部设置的中空部件和与中空部件连通的出口，中空部件供清洗液通过并自出口流出至外部；进液轴，进液轴的内部设置有进液通道，进液通道与中空部件连通，用于供流向中空部件的清洗液通过；第一轴承，包括...
该专利属于江苏芯梦半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏芯梦半导体设备有限公司授权不得商用。

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