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本发明涉及半导体材料清洗剂技术领域，特别涉及一种半导体用清洗剂、制备方法及清洗方法，在现有的氢氧化钾、烷基苯磺酸盐及聚氧乙烯烷基醚组成的清洗剂的基础上，加入B组分，利用B组分中的分解剂的成分，在清洗剂完成对硅片表面清洗后，分解烷基苯磺酸盐，...
该专利属于浙江众益电源有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江众益电源有限公司授权不得商用。

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