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本发明涉及晶圆退火领域，特别是涉及一种激光退火装置及激光退火功率的校准方法，包括激光头、扫描运动组件及工艺腔室；所述激光头固定于所述扫描运动组件上，所述扫描运动组件带动所述激光头移动，完成对待退火晶圆的退火；所述工艺腔室包括透光窗口、工件台...
该专利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司授权不得商用。

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