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本发明属于微电子技术领域，具体为一种构造低介电常数介质材料表面形貌图的方法。本发明利用纳米压印技术直接压印加工低介电常数介质材料，实现该介质材料的表面图形化，以便在集成电路互连制造工艺中应用。相比于传统光刻、刻蚀技术实现介质材料图形化的方法...
该专利属于复旦大学所有，仅供学习研究参考，未经过复旦大学授权不得商用。

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