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一种凹陷沟道的横向和纵向扩散型场效应晶体管及其制造方法技术
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文档序号:4072315
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本发明属于半导体功率器件技术领域,具体公开了一种凹陷沟道的横向和纵向扩散型场效应晶体管。本发明采用凹陷沟道和纵向扩散工艺,大大减小了器件尺寸,抑制了短沟道效应,并且在抑制漏致源端势垒降低的同时,也减小了器件结构中栅漏的寄生电容,提高了器件的...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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