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本技术属于真空镀膜设备技术领域，公开了一种磁控溅射装置，包括真空箱、抽真空组件和第二驱动装置，所述真空箱内设有用于放置基片的基片载具，所述第二驱动装置的输出端连接旋转盘，所述旋转盘的下方固定有磁铁座，所述磁铁座固定有磁铁，所述真空箱连接有阴...
该专利属于深圳隆友德科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳隆友德科技有限公司授权不得商用。

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