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本发明涉及电子级多晶硅生产中提纯三氯氢硅气相直进还原系统及工艺，气相高纯三氯氢硅从提纯产品塔（２）塔釜通过气相采出设备（５），依次经过液体导流部件（１２）、一级除雾器（１１）和二级除雾器（９）除去气相中夹带的液相三氯氢硅，直接采出高纯气相三...
该专利属于天津大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津大学授权不得商用。

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