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一种阵列基板优化刻蚀工艺的制备方法，包括：在玻璃基板上形成第一金属层、第一绝缘层、有源层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层；涂布一层有机光阻，作为平坦层并进行图案化，源极位置进行开孔，采用第三绝缘层的光罩进行开孔，沉积第一透明电极层，在开...
该专利属于华映科技（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华映科技（集团）股份有限公司授权不得商用。

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