下载一种低氧硅片及其制备方法的技术资料

文档序号:40661503

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本申请涉及一种硅片,其中,所述硅片中的锑元素的浓度为4E+14cm‑3至2E+16cm‑3,所述硅片中的总氧含量在25ppma以下,优选在18ppma以下,进一步优选在14ppma以下。本申请涉及包括该硅片的电池和电池组件。本申请涉及一种电...
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