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本发明涉及半导体设备技术领域，具体而言，涉及一种刻蚀设备中聚焦环的高度调节方法、装置及刻蚀设备。高度调节方法包括：判断所述刻蚀设备当前的工作状态，若处于传片阶段，则执行高度调节程序，若处于刻蚀阶段，则不执行高度调节程序；高度调节程序包括：步...
该专利属于珠海格力电子元器件有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海格力电子元器件有限公司授权不得商用。

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