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本发明涉及用于溅射反应器中的护罩。本发明的一个方面包括定位在等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，其至少部分地布置在ＲＦ线圈的径向外部，该ＲＦ线圈用于感应发生等离子体，尤其是用于溅射刻蚀被溅射沉积的衬底。由此，磁阻挡防止等离子体向外泄漏至...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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