温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请涉及一种多层次纳米晶磁片的叠加模切工艺，涉及纳米晶加工制造工艺的技术领域，用于解决传统纳米晶磁片的模切工艺生产效率差、良品率低的缺陷，该工艺包括以下步骤，放卷底膜，在底膜上间隔贴设两层边膜，放卷第一纳米晶带材，第一纳米晶带材位于间隔设...
该专利属于深圳市池纳光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市池纳光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。