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本技术公开了一种用于硅环的喷砂抛光装置，包括喷砂箱、注砂压力罐、负压回砂罐，喷砂箱内设有喷砂室，喷砂室内设置有喷砂管以及旋转台，喷砂管的一端设有朝向旋转台的喷嘴，喷砂管的另一端通过注砂管与注砂压力罐连接，注砂管上设有阀门，喷砂箱与负压回砂罐...
该专利属于浙江圆芯半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江圆芯半导体材料有限公司授权不得商用。

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