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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底；在衬底上形成第一材料层；对第一材料层进行离子注入，形成位于第一材料层内的离子掺杂区，离子掺杂区平行于第一方向上的尺寸为第一尺寸，第一方向平行于衬底表面，离子掺杂区在垂直于第一方向上的尺寸为第二尺寸，...
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