温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种能精度良好地检测腔室有无泄漏的衬底处理装置，及衬底处理装置的泄漏判定方法。本发明是一种将收容在腔室的衬底加热的衬底处理装置的泄漏判定方法。所述泄漏判定方法具备：加热步骤，在腔室(6)内对半导体晶圆(W)进行加热处理；搬出步骤，...
该专利属于株式会社斯库林集团所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社斯库林集团授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。