下载集成沟道二极管的碳化硅器件及其制备方法、芯片的技术资料

文档序号:40595429

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本申请属于功率器件技术领域,提供了一种集成沟道二极管的碳化硅器件及其制备方法、芯片,其中,第一JFET区位于第二JFET区上,且均形成于第一P型体区和第二P型体区之间,第一JFET区的掺杂浓度小于第二JFET区的掺杂浓度。栅极介质层形成于第...
该专利属于深圳天狼芯半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳天狼芯半导体有限公司授权不得商用。

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