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本发明涉及基板处理技术领域，公开了一种密封结构、超临界干燥装置和基板处理系统，密封结构包括：腔室主体，腔室主体的长度方向一侧设置有第一密封部；旋转门，旋转门靠近腔室主体的一侧设置有第二密封部，第二密封部适于与第一密封部贴合；旋转门远离腔室主...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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