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本申请提供成本低、可避免钝化片发黑的氧化层钝化接触制备工序的钝化性能检测方法，包括：提供第一预制硅片；第一次单面镀膜，得到第二预制片；非镀膜面绕镀清洗，第二预制片送入磷硅玻璃刻蚀机台，采用混酸溶液洗去非镀膜面上的绕镀，得到第三预制片；第二次...
该专利属于晶澳太阳能有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晶澳太阳能有限公司授权不得商用。

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