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本发明涉及二维材料基有序介孔的二氧化硅超薄材料、制备方法和应用，涉及超薄有序介孔二维材料制备技术领域。(1)将(PS)<subgt;n</subgt;‑b‑(PEO)<subgt;m</subgt;加入四氢呋喃中，向...
该专利属于北京清新环境技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京清新环境技术股份有限公司授权不得商用。

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