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反射型掩模坯料及反射型掩模的制造方法技术
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文档序号:40553470
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本发明的反射型掩模坯料包括:基板10;设置在所述基板10的一个面上且至少反射EUV光的多层反射膜20;以及设置在所述基板10的另一个面上的背面导电膜30。所述背面导电膜30具有:膜厚为50nm以上且小于80nm、且含有钽(Ta)、硅(Si)...
该专利属于信越化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。
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