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本发明公开了一种新的负性光刻胶组合物及其应用，该组合物包含两种改性聚羟基苯乙烯树脂混合物、光致产酸剂和光刻胶溶剂。在图案曝光部分，光致产酸剂产生一定强度的酸，催化树脂混合物交联，而非曝光部分在碱水中可溶。本发明还公开了所述组合物中树脂的合成...
该专利属于彤程化学（中国）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过彤程化学（中国）有限公司授权不得商用。

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