下载衬底处理方法的技术资料

文档序号:40549400

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一种处理具有间隙的衬底的方法,包括将衬底装载到衬底支撑单元上,通过衬底支撑单元上的气体供应单元向衬底供应低聚硅前体和含氮气体,以及通过向衬底支撑单元和气体供应单元中的至少一个施加电压在反应空间中产生直接等离子体,其中在供应低聚硅前体和含氮气...
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