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本发明提供了一种清洗药液处理方法及装置、硅片清洗设备，属于半导体制造技术领域。清洗药液处理装置，包括：清洗槽，清洗槽内容纳有用于清洗硅片的清洗药液；与清洗槽连通的容纳槽，以及设置在容纳槽中的检测组件，检测组件用于检测清洗药液中的清洗剂浓度和...
该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。

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