专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
拓荆科技上海有限公司
>
一种薄膜沉积方法、装置及存储介质制造方法及图纸
>技术资料下载
下载一种薄膜沉积方法、装置及存储介质的技术资料
文档序号:40539392
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供了一种薄膜沉积方法、装置及存储介质。所述薄膜沉积方法包括以下步骤:确定一次薄膜沉积反应的窗口时长;基于薄膜厚度均一性的目标值及所述窗口时长,进行所述反应源在所述窗口时长内的时长占比实验,以确定所述反应源在所述窗口时长内的目标时长占...
该专利属于拓荆科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆科技(上海)有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。